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高纯铝平面靶材AI

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型号：	TB0-21
产地：	陕西宝鸡天博金属

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宝鸡天博金属材料有限公司专门生产高纯度铝溅射靶，其密度和平均晶粒尺寸尽可能高，可用于半导体、化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）显示器及光学应用。

我们的标准薄膜溅射靶可以是单块的，也可以是平面靶，尺寸和结构高达820毫米，孔钻位置，螺纹，斜边，凹槽和背衬设计用于旧的溅射装置和最新的工艺设备，如大面积太阳能镀膜或者燃料电池和倒装芯片的应用。研究规模的目标也生产，以及定制的大小和合金。所有的目标都是用最好的技术分析的，包括X射线荧光（XRF）、辉光放电质谱（GDMS）和电感耦合等离子体（ICP）。”溅射“允许通过离子轰击将目标材料控制地移除并转换成定向气相/等离子体相，将超高纯度溅射金属或氧化物材料薄膜沉积到另一固体基底上。材料采用结晶、固态和升华等超高纯度工艺生产。

宝鸡天博金属专业生产用于商业和研究应用以及新专利技术的定制成分。

宝鸡天博金属还将任何稀土金属和大多数其他先进材料铸造成棒、棒或板以及其他加工形状。我们也生产铝作为圆盘，颗粒，锭，球，片，粉，棒。其他形状可按要求提供。