铁靶材是一种用于溅射沉积的原材料，主要由高纯铁制成。铁靶材的纯度通常为99.99%或99.999%，其尺寸和形状可根据需要进行定制。此外，铁靶材也可用于电子工业中的蒸发源，用于制备铁薄膜和磁性材料等。
铁靶材可以镀多种颜色，这取决于具体的的应用需求和工艺技术。常见的镀膜颜色包括铬（银色）、铝（银白色）、镍（银白色）、钴（银白色）、钴铬合金（银色）、钛（深灰色）、钛合金（灰色）和铁（灰色）等。不同的颜色可用于满足不同的需求，例如装饰、防护、光学和电子等领域。在镀膜过程中，需要控制镀膜工艺参数，如氧气压力、电流密度、温度等，以确保镀膜颜色的稳定性和耐久性。
铁合金靶材是一种用于物理蒸发、磁控溅射、分子束外延（MBE）等物理气相沉积（PVD）技术的材料。这些技术常用于薄膜沉积、薄膜磁性研究、半导体器件制造、光学涂层和其他各种应用。
铁合金靶材通常是将铁与其他金属元素（如镍、铬、钼、钴等）按照一定比例混合制成的。合金化可以改变材料的物理特性，比如磁性、导电性等，使其适用于特定的应用。
以下是一些常见的铁合金靶材类型：
镍铁合金靶材：包括不同比例的镍铁合金，如Permalloy（常用Ni80Fe20）等，用于磁性材料研究和磁存储器件制造。
铬铁合金靶材：这种合金常用于制备铁素体不锈钢薄膜。
钼铁合金靶材：含有铁的钼合金，适用于光学涂层和一些电子器件的制备。
钴铁合金靶材：钴铁合金也是一种常见的磁性材料，用于磁性薄膜的研究和磁存储器件。
铝铁合金靶材：铝和铁的合金，用于薄膜制备和其他工业应用。
这些铁合金靶材具有广泛的应用，可以根据特定需求制备不同成分和形状的靶材。在物理气相沉积技术中，通过将高纯度的靶材暴露在激发源中，原子或分子被蒸发并沉积在基底上，从而形成所需的薄膜或涂层。
