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钽箔用于芯片制造时,对其纯度和表面粗糙度有怎样的要求?

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钽箔纯度通常要求≥99.95%(如 3N5 级)或更高(如 4N、5N 级),以减少杂质对芯片性能的影响。表面粗糙度一般要求 Ra≤0.2μm,对于光学或电子用途,需超平滑表面,同时还需通过电解抛光或化学清洗等处理,确保表面无污染。


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