锆板在真空镀膜中的溅射速率与膜层均匀性如何？

高纯度锆板（99.95%）作为溅射靶材，在 Ar 离子轰击下溅射速率可达 0.8-1.2nm/s，沉积的锆膜厚度偏差＜2%。通过优化溅射功率（100-300W）和气压（0.5-1Pa），可控制膜层致密度（＞98%）和表面粗糙度（Ra＜5nm），适用于半导体芯片的扩散阻挡层。

宝鸡天博金属在金属材料加工行业内深耕多年，产品保质保量，致力于服务好每位客户，欢迎各位客户随时来电咨询：13347285481陈（WX同号）