什么是溅射靶材？

来源：天博金属网址：http://www.bjtianbometal.com

顾名思义是一种物理气相镀膜方式，

溅射靶材利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。

声明：此篇为宝鸡天博金属材料有限公司原创文章，转载请标明出处链接：https://www.tianbometal.com/h-nd-23.html

文章分类：天博学堂

分享到：