钛靶溅射注意事项

在钛靶溅射过程中，需要注意以下几点：

1. 保持真空腔体尤其是溅射系统洁净，任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物，直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。

2. 溅射气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥，溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出，达到工艺所要求的真空度。

3. 保持合适的溅射功率和溅射时间，以及合适的溅射距离。

4. 保证钛靶材的纯度要求，杂质元素含量越低，钛靶材纯度就越高，同时需要注意不同用途钛靶材对纯度要求不一样。

5. 保证均匀晶粒尺度的要求，一般钛靶需要保证其晶粒尺度在一定范围内。

6. 钛靶材在溅射之前需要进行预溅射，以去除钛表面的污染物和增加靶材表面的粗糙度。

7. 在整个溅射过程中需要密切关注溅射速率和溅射均匀性等参数，并进行及时调整。

8. 需要注意钛靶材的保管和放置，避免其受到潮湿、氧化等因素的影响。

总之，在钛靶溅射过程中需要注意多个方面，以确保溅射薄膜的质量和性能。