PVD镀膜靶材种类有哪些？

PVD（物理气相沉积）镀膜技术是一种常用的表面处理技术，广泛应用于半导体、光学、装饰、工具和模具等领域。PVD镀膜过程中使用的靶材种类根据不同的应用需求而变化，常见的PVD镀膜靶材种类包括：

1. 金属靶材：

   • 钛（Ti）：常用于制备氮化钛（TiN）等装饰涂层和工具涂层。

   • 铬（Cr）：常用于制备铬涂层，具有耐腐蚀性和装饰效果。

   • 铝（Al）：常用于制备氧化铝（Al2O3）或氮化铝（AlN）涂层，应用于光学和防护涂层。

   • 铜（Cu）：常用于导电涂层和光学涂层。

   • 钨（W）：用于制备高硬度涂层，应用于工具和模具领域。

2. 合金靶材：

   • 钛铝合金（TiAl）：常用于制备高温氧化防护涂层和硬质涂层。

   • 铬镍合金（CrNi）：用于耐腐蚀涂层和装饰涂层。

   • 钴铬合金（CoCr）：用于耐磨涂层和生物医用涂层。

   • 钛锆合金（TiZr）：用于装饰和耐腐蚀涂层。

3. 陶瓷靶材：

   • 氧化铝（Al2O3）：用于绝缘涂层、抗反射涂层和硬质涂层。

   • 氮化硅（Si3N4）：用于耐磨涂层和绝缘涂层。

   • 氧化锆（ZrO2）：用于装饰和耐磨涂层。

4. 化合物靶材：

   • 氮化钛铝（TiAlN）：常用于刀具涂层，具有高硬度和耐热性。

   • 氮化铬（CrN）：用于耐磨涂层和抗腐蚀涂层。

   • 碳化钛（TiC）：用于硬质涂层，应用于刀具和模具。