钛平面靶材是一种主要用于物理气相沉积（PVD）工艺的材料。它通常是由高纯度钛（金属元素Ti）制成，形状为平面状，即靶材表面是平整的。钛靶材在PVD工艺中作为目标物质，被高速离子或原子轰击，从而使钛原子从靶材表面脱离并沉积在基材（如半导体晶片、光学元件或其他材料）上，形成薄膜层。
钛靶材在许多高科技领域有广泛应用，尤其是在半导体制造、太阳能电池、显示器和光学元件涂层等领域。钛因其优异的物理和化学性质，如高强度、耐腐蚀性和较好的导电性，使其成为制造各种功能性薄膜的重要材料。
