平面靶材和旋转靶材的区别？

平面靶材和旋转靶材是物理气相沉积（PVD）工艺中常用的两种不同形式的靶材，它们在形状、使用方式和应用场景上有所不同：

1. 形状和结构：

平面靶材：通常为平面或矩形的板状结构，靶材表面是平整的。在沉积过程中，靶材固定在设备内，材料从靶材表面被轰击后以直线方式向基材沉积。

旋转靶材：通常呈圆柱形或类似的圆筒形结构，靶材能够旋转。在沉积过程中，靶材一边旋转，一边进行材料的轰击和沉积。旋转的运动使靶材表面均匀受损，延长了靶材的使用寿命。

2. 材料利用率：

平面靶材：由于靶材表面是固定的，材料沉积会集中在某些区域，导致靶材的使用率较低。材料往往会在局部区域被过度消耗，而其他部分未被充分利用。

旋转靶材：通过旋转，靶材的表面均匀地受到轰击，材料利用率较高，减少了局部过度消耗现象。这样可以更有效地使用靶材，延长其使用寿命。

3. 适用场景：

平面靶材：适用于需要较小面积沉积的应用，或沉积均匀性要求不高的场景。它通常用于实验室或小规模生产中。

旋转靶材：适用于大面积沉积和需要高均匀性的场景，尤其是在高端半导体制造、显示器生产等对薄膜质量要求非常高的应用中。

4. 成本与效率：

平面靶材：通常制造成本较低，设备简单，但材料利用率较低，需要更频繁的靶材更换。

旋转靶材：制造成本较高，设备较为复杂，但由于其材料利用率高和寿命长，在长期生产中能够提高效率并降低成本。

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