常见的钨颗粒尺寸有哪些？

按目数划分

10 目：对应颗粒尺寸约 2.00mm，此类钨颗粒相对较粗，常用于一些对粒度要求不高，需要较大颗粒以达到特定物理性能或工艺要求的场合，如某些特定的合金熔炼，较大颗粒能在熔炼过程中提供更好的稳定性和反应均匀性。

20 目：颗粒尺寸约 0.85mm，在一些需要中等粒度钨颗粒的应用中较为常见，比如在某些粉末冶金工艺中，20 目的钨颗粒可以作为基础原料，与其他金属粉末混合后，通过压制、烧结等工艺制备具有特定性能的合金材料。

40 目：尺寸约 0.425mm，40 目的钨颗粒具有较好的流动性和填充性，常用于制作钨基复合材料，能够在基体材料中均匀分布，提高材料的性能。

60 目：颗粒尺寸约 0.250mm，这种尺寸的钨颗粒在电子封装材料中应用较多，可与其他材料混合制成具有高导热、高导电性的封装材料，满足电子元件的散热和电气性能要求。

按毫米划分

3×3mm：形状规整，这种尺寸的钨颗粒在镀膜、熔炼等领域应用广泛。在真空镀膜中，3×3mm 的钨颗粒可以作为蒸发源材料，通过加热蒸发在基体表面形成均匀的钨薄膜。

6×6mm：较大尺寸的钨颗粒，具有较高的质量和稳定性，常用于一些需要较大颗粒投入量的场合，如大型合金熔炼炉中，作为添加元素来调整合金的性能。

10-30mm：属于较大规格的钨颗粒，一般用于对钨颗粒的物理性能要求较高，且需要较大颗粒来发挥作用的场景，如在一些特殊的军事装备制造中，大尺寸的钨颗粒用于制造穿甲弹的核心部件。

按纳米划分

1-100nm：处于纳米级别的钨颗粒，具有量子尺寸效应等特殊性能，在催化、电子器件等领域有独特的应用。例如在催化领域，纳米钨颗粒可以作为高效催化剂，用于一些有机合成反应，由于其高比表面积和特殊的表面活性，能够显著提高反应速率和选择性。

100-1000nm：可称为亚微米级钨颗粒，在一些高端电子材料和光学材料中应用较多。比如在制备高性能的电子薄膜材料时，亚微米级的钨颗粒可以作为关键成分，通过特定的工艺制备出具有优异电学性能和光学性能的薄膜。

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