关键参数:
氧含量<200ppm(避免 Cr₂O₃导致膜层吸收增加)
晶粒尺寸<5μm(提升膜层光滑度,降低散射损耗)
工艺建议:优先选择熔炼铸造法制备的靶材,致密度>98%。
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