关键数据：纯度≥99.995%（5N 级）可使金属化层杂质缺陷减少 70%
案例：某 14nm 芯片厂使用 5N 铌靶材，器件击穿电压一致性提升至 ±5%
测试标准：通过辉光放电质谱（GD-MS）检测，Fe/Ni 等杂质＜10ppm
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