常用工艺：
电解抛光：提升表面光洁度至 Ra≤0.2μm，减少腐蚀风险。
阳极氧化：生成 Ta₂O₅膜（厚度 5-50μm），增强绝缘性或耐磨性。
喷砂处理：粗化表面（Ra 1.6-6.3μm），用于涂层前预处理。
应用场景：医疗器械需电解抛光，电子元件需阳极氧化绝缘。
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