技术方案：
控制氧含量＜100ppm（靶材）+ 溅射前 Ar 气吹扫（纯度 99.999%）
引入反应溅射（O₂流量 5-10sccm）形成 Nb₂O₅保护膜
测试数据：膜层氧化度＜2%（XPS 分析）
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