高纯度熔炼：采用真空电子束熔炼（EB）或真空电弧重熔（VAR）技术，去除杂质，纯度可达 99.999% 以上。
晶粒控制：通过冷锻压、多向轧制及中间静压处理，细化晶粒并优化取向，提升溅射均匀性。
精密加工：表面粗糙度控制在 Ra≤0.8μm，平面度误差小于 0.05mm，确保镀膜质量。
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