钽膜片:优先用于强腐蚀、高真空环境(如半导体蚀刻设备),但成本较高。
铌膜片:更适合高温、高压工况(如核反应堆冷却系统),兼具经济性与耐氧化性。选择时需结合介质类型、温度范围及预算综合评估。
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