平面靶材和旋转靶材是物理气相沉积（PVD）工艺中常用的两种不同形式的靶材，它们在形状、使用方式和应用场景上有所不同：1. 形状和结构：平面靶材：通常为平面或矩形的板状结构，靶材表面是平整的。在沉积过程中，靶材固定在设备内，材料从靶材表面被轰击后以直线方式向基材沉积。旋转靶材：通常呈圆柱形或类似的圆筒形结构，靶材能够旋转。在沉积过程中，靶材一边旋转，一边进行材料的轰击和沉积。旋转的运动使靶材表...
钛平面靶材是一种主要用于物理气相沉积（PVD）工艺的材料。它通常是由高纯度钛（金属元素Ti）制成，形状为平面状，即靶材表面是平整的。钛靶材在PVD工艺中作为目标物质，被高速离子或原子轰击，从而使钛原子从靶材表面脱离并沉积在基材（如半导体晶片、光学元件或其他材料）上，形成薄膜层。钛靶材在许多高科技领域有广泛应用，尤其是在半导体制造、太阳能电池、显示器和光学元件涂层等领域。钛因其优异的物理和化学...
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