铌板在真空镀膜机中的靶材应用原理是什么？

铌板作为溅射靶材，在真空环境中通过离子轰击释放铌原子，沉积在基底表面形成铌膜。其高纯度（99.95%）可保证膜层均匀性（厚度偏差＜2%），且溅射速率稳定（0.5-1nm/s），广泛用于半导体芯片的铌阻挡层（防止铜扩散）或光学镀膜的高折射率层。

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