铬靶在真空镀膜中有什么优势？

铬靶在真空镀膜领域应用广泛，如在半导体、低辐射玻璃、装饰和功能性膜层等方面。高纯铬靶材经磁控溅射镀膜，具备抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强以及导热导电等特点。采用特定技术制备的铬靶材，致密度可达 99.5%，平均晶粒度小于 50μm，且结构均匀。在实际应用中，可用于汽车玻璃涂层、光伏电池制造、电池制造、燃料电池以及装饰和耐腐蚀涂层等真空应用场景 。

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