光伏产业用钼溅射靶材质量标准

纯度：钼溅射靶材的纯度要求较高，一般需达到 99.95% 甚至 99.99% 以上。高纯度的钼靶材可以减少杂质对镀膜质量的影响，提高太阳能电池的光电转换效率。例如，杂质元素可能会在镀膜过程中形成缺陷，影响薄膜的导电性和光学性能。

杂质含量：严格控制各种杂质元素的含量，如铁（Fe）、镍（Ni）、铬（Cr）、铜（Cu）等。这些杂质元素的含量通常要求在 ppm（百万分之一）甚至 ppb（十亿分之一）级别。例如，铁元素含量过高可能会导致薄膜的磁性增加，影响电池的性能。

密度：钼溅射靶材的密度应接近理论密度，一般要求相对密度达到 99% 以上。较高的密度可以保证靶材在溅射过程中具有均匀的溅射速率和良好的镀膜质量。

硬度：合适的硬度对于靶材的加工和使用非常重要。一般来说，钼溅射靶材的硬度应控制在一定范围内，以保证靶材在加工过程中不易变形，同时在溅射过程中能够均匀地被溅射。

热膨胀系数：靶材的热膨胀系数应与基底材料相匹配，以减少在镀膜过程中因温度变化而产生的应力，避免薄膜出现裂纹或脱落现象。

晶粒尺寸：晶粒尺寸均匀且细小的靶材具有更好的溅射性能。一般要求钼溅射靶材的晶粒尺寸在几十微米到几百微米之间，并且晶粒尺寸的偏差应控制在较小范围内。

晶向取向：对于某些特定的应用，靶材的晶向取向也有一定要求。例如，在一些情况下，要求靶材具有特定的晶向取向，以提高薄膜的生长质量和性能。

表面粗糙度：靶材表面应具有较低的粗糙度，一般要求表面粗糙度 Ra 在 0.2μm 以下。光滑的表面可以保证溅射过程的稳定性，减少颗粒产生的可能性。

表面缺陷：靶材表面不得有裂纹、孔洞、砂眼等缺陷。这些缺陷可能会导致溅射过程中出现异常放电现象，影响镀膜质量。

直径和厚度：靶材的直径和厚度应符合设计要求，并且尺寸偏差应控制在较小范围内。一般来说，直径偏差应控制在 ±0.1mm 以内，厚度偏差应控制在 ±0.05mm 以内。

平面度和垂直度：靶材的平面度和垂直度也有一定要求。平面度偏差应控制在 ±0.05mm 以内，垂直度偏差应控制在 ±0.1° 以内。

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