实验需求：
样品情况：样品大或多，选大尺寸、大容量钨舟，防挤压碰撞。如半导体外延生长处理多衬底时。
实验温度：高温实验，超 2000℃的，挑高纯度、厚壁钨舟，稳定性强。
蒸发材料：熔点高的，像钨、钼，用耐高温、厚且纯的钨舟；蒸气压高的，关注舟形状结构。
设备适配：
镀膜设备：电子束、热蒸发镀膜设备对钨舟尺寸、形状要求不同，前者重聚焦精度，后者看加热效率与均匀性。
真空腔：依真空腔大小选钨舟，要能放入、与壁和部件留距，且装卸便捷。
加热方式：电阻加热选与电极适配的，保接触良好；辐射加热考虑舟对热量吸收分布影响。
成本效率：
实验频率：高频次实验用质量好、寿命长的，虽采购成本高，但减少更换、提效降本；偶尔做的可选低价普通钨舟。
预算限制：按预算选，在满足基本要求下挑性价比高的，多比较供应商产品。
还可参考他人经验、文献，或与供应商沟通获专业建议
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